Nhỏ gọn DC Magnetron Sputtering Coater

Có thể đàm phánCập nhật vào08/04

Mô hình

Thiên nhiên của nhà sản xuất: Nhà sản xuất

Danh mục sản phẩm

Nơi xuất xứ

Tư vấn trực tuyến

Tổng quan

Giới thiệu đơn giản: Nhỏ gọn DC Magnetron Sputtering Coater là một máy tính để bàn Magnetron Plasma Sputtering Coater với mục tiêu 2 inch, giá đỡ mẫu có thể điều chỉnh chiều cao. Đặc biệt thích hợp cho phim vàng dẫn điện phủ mẫu SEM. Nhỏ gọn DC Magnetron Sputtering Coater là một máy phun plasma nhỏ gọn được thiết kế cho lớp phủ kim loại như vàng, bạch kim và bạc. Bao gồm một mục tiêu vàng 2 inch (4N).

Chi tiết sản phẩm

Giới thiệu chi tiết:

Nhỏ gọn DC Magnetron Sputtering Coater Lĩnh vực ứng dụng:

Thiết kế nhỏ gọn DC Magnetron Sputtering Coater chủ yếu là để làm cho một số bộ phim kim loại, diện tích làm phim có thể đạt tới 4 inch. Thiết bị có ngoại hình nhỏ, tỷ lệ tình dục cao, là thiết bị mạ lý tưởng để làm tất cả các loại màng kim loại, có thể được sử dụng với các mục tiêu kim loại khác nhau và bơm chân không với thiết bị tùy chọn.

Nhỏ gọn DC Magnetron Sputtering Coater Thông số kỹ thuật:

Tính năng	1. Được thiết kế đặc biệt để phủ màng vàng dẫn điện cho mẫu SEM. 2. Máy phun plasma nhỏ gọn được thiết kế đặc biệt cho lớp phủ kim loại, chẳng hạn như vàng, bạch kim và bạc. 3. Bao gồm mục tiêu 2 "vàng (4N).
Điện áp đầu vào	220 VAC 50/60Hz, 200W <1000 W (bao gồm cả công suất bơm chân không) Nguồn điện 110VAC có sẵn với máy biến áp 1000 W (cầu chì 15 A).
Điện áp đầu ra	500 VDC
Sputtering hiện tại	0 - 50 mA (max) Dòng điện phún xạ có thể điều chỉnh Đồng hồ đo hiện tại kỹ thuật số (mA) Bảo vệ quá dòng
Thời gian phún xạ	1-120 giây điều chỉnh
Phòng mẫu	Ống thủy tinh thạch anh, 165
mm OD × 150 mm ID × 150 mm Chiều cao	Bảng mẫu
Đường kính 2', điều chỉnh chiều cao, từ mẫu đến mục tiêu 30 - 80 mm	Đầu phún xạ
2'Magnetron Sputter đầu. Một tấm che hoạt động bằng tay để bảo vệ mục tiêu	Áp suất chân không Máy đo áp suất chân không kỹ thuật số (Pa) Đầu nối bơm chân không KF25
Áp suất chân không giới hạn cho máy bơm cơ khí là 1 và máy bơm không được bao gồm.	Khí đầu vào Lắp đặt một khớp nối ống loại 1/4 SHIWELLOCK để kết nối các bình khí trơ.
Có một van đo trên bảng điều khiển phía trước để điều chỉnh khí đầu vào.	Mục tiêu Bao gồm một mục tiêu vàng có đường kính 50mm × 0,12mm Lá vàng tinh khiết 4N: 50 mm (2 inch) đường kính x 0,12 mm (bao gồm và cài đặt sẵn trên máy mạ) Mục tiêu tùy chọn Mục tiêu vàng (đường kính 50 mm × 0,12
mm, độ tinh khiết 4N)	Mục tiêu bạch kim (đường kính 50 mm × 0,12 mm, độ tinh khiết 4N) Mục tiêu bạc (đường kính 50 mm × 0,5 mm, độ tinh khiết 4N)
Mô hình này phù hợp để phủ vàng, bạc, bạch kim. Và do năng lượng thấp, nó không thích hợp để phủ các vật liệu kim loại nhẹ như Al, Mg, Zn hoặc mục tiêu carbon. Xin vui lòng xem xét máy phủ phún xạ magnetron DC/RF công suất cao của chúng tôi hoặc máy phủ bay hơi nhiệt.	Kích thước và trọng lượng sản phẩm

L 460mm×W 330 mm×H 520 mm

Sản phẩm tương tự Khuyến nghị